总编辑圈点丨光纤水平低损耗硅晶圆光导制成,有助推动下一代光子集成电路发展

2026-02-09 01:01:00 来源: 科技日报 点击数:

科技日报记者 张梦然

将光纤优异的低损耗性能延伸到光子芯片上,一直是光电子领域的重要挑战。现在,美国加州理工学院团队终于在可见光波段,成功制备出光纤水平的低损耗硅晶圆光导。这项进展将推动下一代高性能、高相干性的光子集成电路的发展,未来可广泛应用于片上光学时钟、陀螺仪等精密测量系统,以及人工智能数据中心通信和量子计算等领域。该成果发表于最新一期《自然》杂志。

团队开发出一种新方法,可将与光纤相同的锗硅酸盐玻璃以光刻工艺制备在硅晶圆上,在光子芯片低损耗光导研究方面取得关键突破。他们使用8英寸或12英寸晶圆,制备出螺旋状锗硅酸盐玻璃波导。这种结构能在有限面积内有效延长光路,同时材料便于与光纤和半导体激光器高效耦合,有助于降低数据中心等设施的能耗。

相比当前广泛使用的氮化硅材料,新平台在近红外波段已具备相当性能,在可见光波段优势更为明显。再通过低温退火工艺,波导表面可达到原子级平整,显著抑制散射损耗。在可见光波段,其性能较氮化硅现有纪录提升约20倍。

尽管芯片尺寸仅约2厘米,但光在环形谐振腔等器件中的有效路径长度可达米至千米量级,此时低损耗尤为关键。

低损耗特性直接提升了器件性能。基于该平台制备的激光器件,其相干时间较上一代技术提高100多倍。这一方法也扩展了可用波长范围,有助于实现芯片级原子传感器、光学时钟和离子阱系统。

目前,团队已利用该材料制备出环形谐振器、多种激光器及非线性频率生成器等。

总编辑圈点

可见光在传统硅材料中传播时损耗显著。为破解这一难题,研究团队通过精密的光刻工艺,在硅晶圆表面刻蚀出特殊的光学回路,这就如同为光线修建了一条通畅的“高速公路”,极大减少了光在传播过程中的散射损耗。该研究成果将为未来芯片技术带来重要影响。它意味着,科学家有望在硅芯片上,用低损耗的可见光来进行高速数据传输和运算,从而大幅提升计算速度、降低能耗。这将为下一代光子集成电路、量子信息处理等领域打开新的大门。

责任编辑:左常睿
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