电科装备实现碳化硅芯片制程减薄工艺全覆盖

2026-10-15 14:59:39 来源: 科技日报 点击数:

科技日报记者 付毅飞

记者10月15日从中电科电子装备集团(简称电科装备)获悉,该集团下属北京中电科公司自主研制的首台套碳化硅(SiC)器件晶圆全自动减薄机,近期成功交付国内头部晶圆企业实现量产应用。至此,该公司已形成行业领先的覆盖碳化硅晶锭、晶片、器件晶圆全流程国产减薄成套解决方案。

当前,化合物半导体产业迈入规模化扩张的关键窗口期。新能源汽车800V高压平台加速普及、光伏储能标准迭代升级、AI算力电源需求集中释放,三重发展红利叠加,市场对满足车规、算力应用场景的高性能碳化硅功率器件需求迫切。

在碳化硅功率器件制造中,晶圆背面减薄工艺是决定器件热阻、导通损耗与批量良率的重要工序之一。由于碳化硅材料硬度高、难磨削,晶圆背面加工易产生崩边、微裂纹甚至破片,对减薄设备刚性、主轴抑振、载台控形及工艺闭环控制提出严苛要求。

北京中电科公司锚定行业痛点,攻关研发碳化硅器件晶圆全自动减薄机。据介绍,设备采用三轴四工位整机结构,集成自动化传输、清洗单元,实现干进干出的全自动加工流程,有效压缩工序流转时间。通过匹配高刚性、低振动、高功率的气浮主轴、磨轮与工艺参数,实现加工效率与耗材成本的平衡。经量产实测,8英寸碳化硅晶圆最低可稳定磨削至120微米,单位小时产出不低于15片,磨削后晶圆内厚度偏差稳定控制在3微米以内,全面满足规模化量产对产能与一致性要求。

同时,设备搭载自研高刚度精密气浮主轴,达成亚微米级回转运动精度,能实现宽泛的工艺窗口,满足多元减薄耗材需求;同步配套高精度载荷检测,可实时监控工艺、预警破片风险。设备软硬件还支持搭配砂轮自动修正与标定功能。

据悉,该装备实现了国产设备在8英寸碳化硅晶圆背面减薄工艺环节的重大突破,补齐了我国化合物半导体制造装备短板,为国内碳化硅功率器件规模化生产提供了坚实保障。

(电科装备供图)

责任编辑:冷媚
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